真空内設置電子銃Vacuum Electron Beam Gun
真空内に設置して使用する電子銃。
真空ロー付け、蒸着、溶融やイオンビーム照射誘電体ターゲットの表面電荷中和に使用できます。
仕様一覧
型番 EBV1K-5D EBV10K-200D
出力モード DC DC
最大出力 5W
(1kV x 5mA)
2kW
(10kV x 200mA)
XY最大偏向角 - ±5°
電子銃出口からのビーム径 200mm位置で
3mA: 約7mm
5mA: 約10mm(加速減速モード)
100mm位置で約4mm
使用環境圧力 2x10^-3Pa以下
ベーキング可能温度 180℃
取付姿勢 自由
用途 イオンビームによる誘電体表面ナノ加工時の表面帯電防止等 金属の真空溶解、熱処理、拡散接合やロー付け等

通常納期
約4ヶ月