イオン源Ion Source
イオン注入、スパッタ、エッチング等に使用するイオン発生機器です。
高輝度の水素およびヘリウムイオンビームを生成するイオン源。
加速器等へのイオン源に適しています。
小径ビーム直接引出型負イオン源、中性ビーム源にも使用可能です。
デュオプラズマトロンのプラズマ膨張室に副室を設けて腐食性ガスを導入し、ペニング電離によって腐食性ガス正イオンビームを生成します。
小型、堅牢で長寿命なPIGイオン源。
パルスビーム生成に使用した場合、極めて高速で再現性のよいビームの取り出しが可能です。
デュオプラズマトロン
高輝度の水素およびヘリウムイオンビームを生成するイオン源。
加速器等へのイオン源に適しています。
小径ビーム直接引出型負イオン源、中性ビーム源にも使用可能です。
型番 | IBG-DUP1P | IBG-DUP1N |
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出力 | 原子状水素イオン300μA He1価イオン600μA He2価イオン10μA |
水素負イオン10μA フッ素負イオン5μA |
トリプラズマトロン
デュオプラズマトロンのプラズマ膨張室に副室を設けて腐食性ガスを導入し、ペニング電離によって腐食性ガス正イオンビームを生成します。
型番 | IBG-TRP |
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出力 | 窒素イオン10μA 酸素イオン5μA |
冷陰極PIG
小型、堅牢で長寿命なPIGイオン源。
パルスビーム生成に使用した場合、極めて高速で再現性のよいビームの取り出しが可能です。
型番 | IBG-PIG1 | IBS-PIG3 | IBM-PIG1 |
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ビーム電流 | 水素イオン10μA Heイオン10μA |
- | Niイオン5μA Alイオン0.5μA Cuイオン0.5μA |
アノード電圧 x 電流 | - | 3kV x 3mA | - |
放電ガス種類 | - | 水素、ヘリウム、アルゴン | - |
用途 | 細径で輝度の大きい軽イオンビーム | アノードプラズマジェットを直接試料に当ててスパッタやエッチングを行う | イオン注入等の金属イオンビーム |
型番 | IBG-PIG1P | IBG-PIG100P |
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イオン種類 | 水素、ヘリウム | 水素、ヘリウム |
パルス波頭電流値 | 1mA | 100mA |
パルス波形 | 矩形 | 矩形 |
10-90%立上り/立下り時間 | 200ns | 1μs |
最小パルス幅 | 2μs | 10μs |
繰返し周波数 | 10Hz~10kHz | 10Hz~1kHz |
通常納期
約4ヶ月