真空内に設置して使用する電子銃。
真空ロー付け、蒸着、溶融やイオンビーム照射誘電体ターゲットの表面電荷中和に使用できます。

仕様一覧

型番	EBV1K-5D	EBV10K-200D
出力モード	DC	DC
最大出力	5W (1kV x 5mA)	2kW (10kV x 200mA)
XY最大偏向角	-	±5°
電子銃出口からのビーム径	200mm位置で 3mA： 約7mm 5mA： 約10mm（加速減速モード）	100mm位置で約4mm
使用環境圧力	2x10^-3Pa以下
ベーキング可能温度	180℃
取付姿勢	自由
用途	イオンビームによる誘電体表面ナノ加工時の表面帯電防止等	金属の真空溶解、熱処理、拡散接合やロー付け等